| Titre : |
Le vide : Les couches minces - Les couches dures |
| Type de document : |
texte imprimé |
| Auteurs : |
Aimé RICHARDT ; Anne-Marie DURAND ; Henri LE GALL, Préfacier, etc. |
| Editeur : |
Editions IN FINE |
| Année de publication : |
1994 |
| Importance : |
471 p. |
| ISBN/ISSN/EAN : |
978-2-84046-030-5 |
| Note générale : |
Préface
Avant-propos
Bibliographie
Table des matières |
| Catégories : |
Chromatographie sur couches minces
Couches minces
Vide (physique)
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| Index. décimale : |
533.5 Vide : technique du vide |
| Résumé : |
LE VIDE
Généralités
Production du vide
Mesure des faibles pressions
Les huiles pour pompes à vide
Réalisation d'une installation à vide
Généralités sur les technologies de dépôt sous vide
Propriétés électriques des couches minces
Préparation des surfaces et adhérence des couches
L'évaporation sous vide
Dépôt de couches minces par pulvérisation (sputtering)
Les sources et faisceaux d'ions
Dépôts par Ion Plating
Dépôts par CVD et PCVD
L'implantation ionique
Dépôts par clusters ionisés
L'épitaxie par jets moléculaires
Techniques de dépôt pour applications microélectriques
Dépôts de couches diélectriques et optiques assistés par bombardement ionique
Caractérisation des couches minces
Généralités sur les couches dures
L'implantation ionique, son application aux durcissements superficiels
Les couches dures de nitrure de titane
Les couches dures de carbone (DLC) |
